Datenbestand vom 01. Juli 2020

Warenkorb Datenschutzhinweis Dissertationsdruck Dissertationsverlag Institutsreihen     Preisrechner

aktualisiert am 01. Juli 2020

ISBN 9783843928069

72,00 € inkl. MwSt, zzgl. Versand


978-3-8439-2806-9, Reihe Elektrotechnik

Fabian Kiefer
Kontaktierung Ionen-implantierter Boremitter in n-Typ Silizium-Solarzellen mittels Silber/Aluminium-Pasten

143 Seiten, Dissertation Universität Hannover (2016), Softcover, B5

Zusammenfassung / Abstract

Die vorliegende Arbeit beschäftigt sich mit Bor-dotierten Ionen-implantierten p+-Emittern für Solarzellen auf n-Typ Silizium und deren Kontaktierung mittels Metallpasten-Druck. Üblicherweise werden dafür Silber-Pasten eingesetzt, denen ein geringer Anteil Aluminium beigemischt wird. Dadurch können zur p+-Schicht ausreichend niedrige spezifische Kontaktwiderstände erreicht werden.

Ein Ziel der Arbeit ist, die Kontaktausbildung zwischen Ag/Al-Paste und Silizium zu verstehen und damit die elektrischen Eigenschaften des Kontaktes zu erklären. Desweiteren sollen die gewonnenen Erkenntnisse dazu benutzt werden, den Wirkungsgrad von n-Typ PERT (passivated emitter, rear totally diffused) Solarzellen zu verbessern.